薄膜試作、スパッタリングによる薄膜作製（試作量産受託加工）、不連続蒸着膜のコンサル、「スパッタの武蔵野真空技研」

スパッタリングによる薄膜作成試作及びスパッタリング装置製造に関する加工業務を行っております。 薄膜受託作製 　　　薄膜受託作製のページへ 　　　　　　薄膜の試作１枚より量産まで対応。（小物の試作から大物の試作まで） 　　　　　　スパッタリング法、イオンプレーティング法、蒸着法により成膜。 　　　　　　大面積にもできます　(最大大きさ８００×１２００mm） スパッタリング装置や真空蒸着装置などの装置作製 　　　　　　その他イオンプレーティング装置等も作製・開発致します。 各種薄膜作製に関するコンサルティング 　　　　　　不連続蒸着膜加飾（装飾）関連のコンサルを始めました。 電磁波シールド膜作製（ＥＭＩシールド膜） 　　　　　　携帯電話、ノートパソコン、医療機器のノイズ防止向け 不連続蒸着膜（非導電性金属装飾膜）の作製 　　　　　　電気を通さない「非導電性」であり、かつ金属光沢をした装飾膜です。 　　　　　　ノイズ防止、静電破壊低減等の効果。 　　　　　　携帯電話外装品、デジカメ外装品の塗装にぴったり 　　　　　　コーティング膜 真空関連の部品作製 表面処理加工：プラズマ放電利用 　　　　　　ポリイミドフィルム等の密着性を向上します。 　　　　　　試作及びプラズマ表面処理装置の販売 　その他いろいろお問い合わせ下さい。 　　お問い合わせ先 　　　　　有限会社　武蔵野真空技研 　　　　　　　〒184-0003 　　　　　　　東京都小金井市緑町1-2-34 　　　　　　　TEL 042-385-0032　　　　FAX 042-301-7912 　　　　　　　担当：小山 　　　　　　　工場：神奈川県川崎市麻生区マイコンシティー内

（土日祭日もどうぞお問い合わせ下さい）
（営業時間　夜２１時頃まで）

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メール：musashino-vac@paw.hi-ho.ne.jp


今後の予定他

　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　更新　２０２０年９月１日

皆様のお役にたてるよう一層の努力をしてまいりますので、　よろしくお願い申し上げます。

トピックス　
　 　　・2011年2月　『2011　国際ナノテクノロジー総合展』産業技術総合研究所「調光ミラー」
　　　　　　　　　　　　　　　　：出品ミラー、弊社装置で作製しました
　　　 ・2010年 第79巻　応用物理学会誌；「省エネルギー特性い優れた調光ミラーの創製」
　　　　　　　　　　　　　　　　　　産業技術総合研究所「調光ミラー研究紹介」：弊社装置で作製しました。
　　　 ・2007年12月 3日 プレスリリース；産業技術総合研究所「調光ミラー研究紹介」：弊社装置で作製しました。
　　 　・2006年12月21日プレスリリース；産業技術総合研究所「調光ミラー開発」：弊社装置で作製しました。
　　　・2006年11月。川崎麻生区栗木（マイコンシティー内）に工場移転。稼働開始
　　　　　　　　　　　　　　クリーンブース完備。
　　　・2006年４月　「認定電気工事従事者」　の認定される。
　　　・2005年３月。台湾企業様へＬＣＤ関連スパッタリング装置納入
　　　　　　　　　　　　　　　【特徴】
　　　　　　　　　　　　　　　　約９００×１０００ｍｍガラス対応。
　　　　　　　　　　　　　　　　３層膜スパッタ成膜。
　　　　　　　　　　　　　　　　面内膜厚分布±４％　　　⇒　　　台湾企業様よりさらに分布は低減できているとの報告あり。
　　　・2004年９月。台湾企業様からＬＣＤ関連スパッタリング装置作製受注。
　　　・２００４年１１月。法人化。有限会社になりました。
　　　・２００４年１１月。川崎工場稼働開始

　取得済　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　２００６年４月２７日現在
　　　・認定電気工事従事者免許取得　　　　　２００６年４月（第１種電気工事士試験合格）
　　　・ＩＳＯ９００１内部監査員講習受講終了　２００４年５月
　　　・ＩＳＯ９００１基礎講習受講終了　　　　　　２００４年４月
　　　・衛生工学衛生管理者免許取得；　　　　２００３年１２月
　　　・危険物取扱者乙４類免許取得

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